傳統(tǒng)CMOS工藝縮放技術(shù)的發(fā)展正逐漸逼近極限,迫切需要采用新材料和新器件設(shè)計(jì)。隨著這些新材料和新設(shè)計(jì)的出現(xiàn),人們非常關(guān)注潛在失效機(jī)理,并需要進(jìn)行更多的可靠性測(cè)試。諸如偏溫不穩(wěn)定性(N-BTI和P-BTI)等失效機(jī)理需要高速信號(hào)源和測(cè)量功能才能解析快速恢復(fù)效應(yīng)。通過(guò)分析包括在運(yùn)行中測(cè)量在內(nèi)的各種測(cè)量技術(shù),有助于利用合適的儀器實(shí)現(xiàn)有效的測(cè)量解決方案。