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6 月 27 日消息，ASML 技術高級副總裁 Jos Benschop 在接受《日經(jīng)亞洲》采訪時表示，該企業(yè)已同光學組件獨家合作伙伴蔡司一道啟動了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻機開發(fā)。

作為參考，目前的 TWINSCAN EXE:5000 光刻系統(tǒng)采用 High NA (0.55NA) 光學系統(tǒng)，分辨率為 8nm。更高的分辨率意味著先進制程企業(yè)可減少曝光次數(shù)、提升光刻圖案質量。

Jos Benschop 提到，ASML 尚未設定 Hyper NA 光刻機推出的目標日期，不過項目開發(fā)目標是將 NA（IT之家注：數(shù)值孔徑）進一步提升到 0.7 乃至更高；5nm 的分辨率意味著 Hyper NA 系統(tǒng)能滿足 2035 年乃至更后階段的產(chǎn)業(yè)需求。

對于近來才啟動部署的 High NA 圖案化設備，這位 ASML 高管稱這些機臺的廣泛使用要晚一些，這是因為行業(yè)需要測試、驗證并建立相應的生態(tài)系統(tǒng)；0.55NA 光刻機預計可滿足本十年內乃至到三十年代初的行業(yè)需求。

關鍵字：ASML 光刻機蔡司引用地址：ASML 技術高級副總裁：已攜手蔡司啟動 5nm 分辨率 Hyper NA 光刻機開發(fā)

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